SK Hynix 推出 321 层 2 Tb QLC NAND,已进入 AI 数据中心

SK Hynix 推出 321 层 2 Tb QLC NAND,已进入 AI 数据中心

SK Hynix推出的321层2Tb QLC NAND闪存标志着全球存储技术的重大突破。这款产品采用第五代4D NAND技术,通过垂直堆叠321层存储单元实现单芯片容量2Tb,较前代产品翻倍,存储密度提升超50%。其QLC技术使每个存储单元存储4bit数据,配合独创的32DP封装技术,单封装集成32颗芯片,容量可达128TB,较现有产品集成度提升100%,特别适配AI数据中心对海量数据存储的需求。

性能表现方面,321层QLC NAND实现数据传输速度翻倍至3.2GB/s,写入性能提升56%,读取性能提升18%,写入功耗效率优化23%以上。通过将芯片内平面数量从4个扩展至6个,并行处理能力提升50%,有效解决了QLC存储密度与性能的固有矛盾。该产品已成功应用于AI训练集群的冷数据存储层,实测显示在128KB块大小下,随机读取延迟较HDD降低98%,能效比提升8倍,配合自研HBM内存形成全链路AI存储解决方案。

市场布局呈现分阶段推进策略:2025年第四季度率先进入PC固态硬盘市场,2026年上半年拓展至企业级SSD及智能手机嵌入式存储。TrendForce分析指出,该产品凭借单位GB成本降低30%的优势,有望在2026年占据全球QLC市场45%份额,推动企业级SSD市场中QLC渗透率突破20%。与NVIDIA的深度合作更催生AI-N P高性能产品线,计划2026年底推出样品,性能达现有企业级SSD的8-10倍,2027年量产第二代产品将实现30倍性能跃升,IOPS突破1亿大关,重构AI数据中心存储架构。

在光学领域,碳化硅光波导技术实现成本与性能的双重突破。慕德微纳第二代产品采用8英寸SiC衬底,通过纳米压印剥离工艺解决硬脆材料加工难题,配合超薄封装技术使单片镜片重量降至3.795克,厚度0.75毫米。量产数据显示,当月产量提升至20000片时,单位成本可降至651元,较初始阶段降低28%。该技术实现1238.10 nit/lm全彩显示光效、20.45%亮度均匀性及1.52%低畸变,彻底消除传统玻璃波导的彩虹伪影问题,并兼容超薄菲涅尔处方镜片实现视力矫正功能。

产业链协同效应显著加速技术落地。晶盛机电子公司浙江晶瑞SuperSiC构建碳化硅全链条智能制造工厂,保障衬底产能与品质;广纳四维完成数千万元融资重点投入碳化硅波导刻蚀量产工艺优化;天科合达则聚焦大尺寸SiC衬底在AR领域的技术突破。华为、小米、Rokid等头部企业计划在2026-2027年推出采用碳化硅光波导的消费级AR眼镜,推动设备向“极致轻薄、全彩高清、显示传感集成”的终极形态进化。

应用场景持续拓展彰显技术普适性。在数据中心光通信中,碳化硅光波导凭借4.9W/cm·K高热导率实现无源散热功能一体化,适配5G基站、车载HUD等高功耗场景。在消费电子领域,该技术使笔记本电源适配器体积缩小40%,支持100W以上快充;数据中心服务器电源功率密度提升30%,支撑更高密度计算部署。XR研究院预测,2030年全球AR/AI眼镜年发货量将突破1.3亿副,催生万亿级新兴市场,而碳化硅光波导正是实现这一目标的核心技术支撑。

两项技术的协同发展正深刻改变产业格局。SK Hynix通过400层以上NAND预研与32DP封装技术扩展,持续巩固存储密度领先地位;碳化硅光波导则通过材料创新与制造工艺突破,构建从“概念—制造—性能验证”的完整技术路线。这种跨领域技术融合不仅推动AI基础设施革命,更在新能源、5G通信、工业视觉等场景产生连锁创新效应,为数字经济时代的数据处理、人机交互、能源利用提供全新解决方案,重新定义未来十年的数据基础设施标准。

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