英特尔代工部门展示互连微缩技术突破性进展

32度域获悉,2024年IEEE国际电子器件会议上,英特尔代工展示了多项技术突破。具体而言,在新材料方面,减成法钌互连技术最高可将线间电容降低25%,有助于改善芯片内互连。英特尔代工还率先汇报了一种用于先进封装的异构集成解决方案,能够将吞吐量提升高达100倍,实现超快速的芯片间封装。此外,为了进一步推动全环绕栅极的微缩,英特尔代工展示了硅基RibbionFET CMOS (互补金属氧化物半导体)技术,以及用于微缩的2D场效应晶体管的栅氧化层模块,以提高设备性能。

本内容为作者独立观点,不代表32度域立场。未经允许不得转载,授权事宜请联系 business@sentgon.com
如对本稿件有异议或投诉,请联系 lin@sentgon.com
👍喜欢有价值的内容,就在 32度域 扎堆
(0)

猜你喜欢

发表回复

登录后才能评论