阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产

阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NAEUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正与客户合作,以全面完善该光刻系统的成熟度。

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